TSMC và ASML chuyển mặt nạ quang từ 6 inch lên 12 inch
TSMC và ASML hợp tác chuyển mặt nạ quang dùng cho High NA EUV từ 6 inch lên 12 inch, đặt mốc sản xuất thử năm 2031 và sản xuất hàng loạt năm 2033.
2 bài đã kiểm chứng về TSMC, sản phẩm và diễn biến ngành.
TSMC và ASML hợp tác chuyển mặt nạ quang dùng cho High NA EUV từ 6 inch lên 12 inch, đặt mốc sản xuất thử năm 2031 và sản xuất hàng loạt năm 2033.
Nhu cầu chip AI khiến năng lực tiên tiến của TSMC kéo tới 2028, buộc BYD, Google, AMD và Tesla xem xét Samsung.